中国化学机械抛光(CMP)技术行业发展状况分析及投资前景展望研究报告2023-2029年
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[报告编号] 375668
[出版日期] 2023年8月
[出版机构] 中研华泰研究院
[交付方式] EMIL电子版或特快专递
[报告价格] 纸质版:6500元 电子版:6800元 纸质版+电子版:7000元
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章　化学机械抛光（CMP）技术相关概述
1.1　CMP技术概述
1.1.1　CMP技术概念
1.1.2　CMP工作原理
1.1.3　CMP材料类型
1.2　CMP设备应用领域分析
1.2.1　硅片制造领域
1.2.2　集成电路领域
1.2.3　先进封装领域
第二章　2021-2023年中国化学机械抛光（CMP）技术发展环境
2.1　政策环境
2.1.1　行业相关支持政策
2.1.2　应用示范指导目录
2.1.3　原材料工业“三品”实施方案
2.2　经济环境
2.2.1　全球经济形势
2.2.2　国内经济运行
2.2.3　工业经济运行
2.2.4　宏观经济展望
2.3　社会环境
2.3.1　人口结构状况
2.3.2　居民收入水平
2.3.3　居民消费结构
2.4　技术环境
2.4.1　CMP技术发展优势
2.4.2　CMP技术发展水平
2.4.3　CMP专利申请数量
2.4.4　CMP专利地域分布
2.4.5　CMP专利竞争格局
2.4.6　CMP重点专利分析
第三章　2021-2023年中国CMP抛光材料行业发展状况
3.1　半导体材料行业发展分析
3.1.1　半导体材料主要细分产品
3.1.2　半导体材料行业发展历程
3.1.3　半导体材料行业发展规模
3.1.4　半导体材料市场构成分析
3.1.5　半导体材料行业发展措施
3.1.6　半导体材料行业发展前景
3.2　CMP抛光材料行业概述
3.2.1　抛光材料组成
3.2.2　抛光材料应用
3.2.3　行业技术要求
3.2.4　行业产业链条
3.3　CMP抛光材料市场发展分析
3.3.1　全球市场发展
3.3.2　行业发展历程
3.3.3　发展
3.3.4　市场结构分布
3.3.5　行业壁垒分析
3.4　CMP抛光液市场发展分析
3.4.1　CMP抛光液主要成分
3.4.2　CMP抛光液主要类型
3.4.3　CMP抛光液行业发展规模
3.4.4　CMP抛光液行业竞争格局
3.4.5　CMP抛光液行业发展机遇
3.4.6　CMP抛光液行业进入壁垒
3.5　CMP抛光垫市场发展分析
3.5.1　CMP抛光垫主要类别
3.5.2　CMP抛光垫主要作用
3.5.3　CMP抛光垫市场需求分析
3.5.4　CMP抛光垫行业市场规模
3.5.5　CMP抛光垫市场销售均价
3.5.6　CMP抛光垫行业竞争格局
3.5.7　CMP抛光垫国产替代进展
3.6　CMP抛光材料行业制约因素
3.6.1　技术封锁阻碍发展
3.6.2　下游认证壁垒高
3.6.3　高端人才紧缺限制
第四章　2021-2023年中国CMP设备行业发展状况
4.1　半导体设备行业发展情况
4.1.1　半导体设备相关介绍
4.1.2　半导体设备政策发布
4.1.3　半导体设备市场规模
4.1.4　半导体设备市场结构
4.1.5　半导体设备竞争格局
4.1.6　半导体设备国产化分析
4.1.7　半导体设备投融资分析
4.1.8　半导体设备发展趋势分析
4.2　全球CMP设备行业发展情况
4.2.1　全球CMP设备市场规模
4.2.2　全球CMP设备区域分布
4.2.3　全球CMP设备企业格局
4.3　中国CMP设备行业发展情况
4.3.1　CMP设备主要构成
4.3.2　CMP设备应用场景
4.3.3　CMP设备市场规模
4.3.4　CMP设备贸易规模
4.3.5　CMP设备主要企业
4.4　CMP设备行业投资风险
4.4.1　市场竞争风险
4.4.2　技术创新风险
4.4.3　技术迭代风险
4.4.4　客户集中风险
4.4.5　政策变动风险
第五章　2021-2023年化学机械抛光（CMP）技术应用领域发展分析——集成电路制造行业
5.1　集成电路制造业概述
5.1.1　集成电路制造基本概念
5.1.2　集成电路制造工艺流程
5.1.3　集成电路制造驱动因素
5.1.4　集成电路制造业重要性
5.2　全球集成电路制造业发展分析
5.2.1　全球集成电路市场规模
5.2.2　全球集成电路市场结构
5.2.3　全球集成电路区域分布
5.2.4　全球集成电路企业格局
5.2.5　全球晶圆制造市场分析
5.3　中国集成电路制造业发展分析
5.3.1　集成电路制造市场规模
5.3.2　集成电路制造区域布局
5.3.3　集成电路制造设备发展
5.3.4　集成电路制造行业壁垒
5.3.5　集成电路制造发展机遇
5.4　晶圆代工业市场运行分析
5.4.1　全球晶圆代工市场规模
5.4.2　全球晶圆代工新建工厂
5.4.3　全球晶圆代工竞争格局
5.4.4　中国晶圆代工市场规模
5.4.5　中国晶圆代工国际地位
5.4.6　晶圆代工行业技术趋势
第六章　2021-2023年国外化学机械抛光（CMP）技术行业主要企业经营情况
6.1　美国应用材料（Applied Materials, Inc.）
6.1.1　企业发展概况
6.1.2　2021财年企业经营状况分析
6.1.3　2022财年企业经营状况分析
6.1.4　2023财年企业经营状况分析
6.2　荏原株式会社
6.2.1　企业发展概况
6.2.2　2021年企业经营状况分析
6.2.3　2022年企业经营状况分析
6.2.4　2023年企业经营状况分析
6.3　卡博特公司
6.3.1　企业发展概况
6.3.2　2021财年企业经营状况分析
6.3.3　2022财年企业经营状况分析
6.3.4　2023财年企业经营状况分析
6.4　陶氏公司
6.4.1　企业发展概况
6.4.2　2021年企业经营状况分析
6.4.3　2022年企业经营状况分析
6.4.4　2023年企业经营状况分析
第七章　2020-2023年国内化学机械抛光（CMP）技术行业主要企业经营情况
7.1　华海清科股份有限公司
7.1.1　企业发展概况
7.1.2　企业产品布局
7.1.3　经营效益分析
7.1.4　企业营收结构
7.1.5　业务经营分析
7.1.6　财务状况分析
7.1.7　企业项目投资
7.1.8　企业技术水平
7.1.9　核心竞争力分析
7.1.10　公司发展战略
7.1.11　未来前景展望
7.2　湖北鼎龙控股股份有限公司
7.2.1　企业发展概况
7.2.2　企业产品布局
7.2.3　经营效益分析
7.2.4　企业营收结构
7.2.5　业务经营分析
7.2.6　财务状况分析
7.2.7　企业技术水平
7.2.8　企业项目投资
7.2.9　核心竞争力分析
7.2.10　公司发展战略
7.2.11　未来前景展望
7.3　安集微电子科技（上海）股份有限公司
7.3.1　企业发展概况
7.3.2　企业主要产品
7.3.3　产品产量规模
7.3.4　经营效益分析
7.3.5　企业营收结构
7.3.6　业务经营分析
7.3.7　财务状况分析
7.3.8　在研项目进展
7.3.9　项目投资动态
7.3.10　核心竞争力分析
7.3.11　公司发展战略
7.3.12　未来前景展望
7.4　北京晶亦精微科技股份有限公司
7.4.1　企业发展概况
7.4.2　企业竞争优势
7.4.3　企业竞争劣势
7.4.4　企业主要产品
7.4.5　产品演变历程
7.4.6　企业营收规模
7.4.7　企业营收结构
7.4.8　企业发展规划
第八章　化学机械抛光（CMP）技术行业项目投资案例
8.1　宁波安集化学机械抛光液建设项目
8.1.1　项目基本情况
8.1.2　项目投资必要性
8.1.3　项目投资可行性
8.1.4　项目投资概算
8.1.5　项目建设期限
8.1.6　项目经济效益
8.2　华海清科化学机械抛光机产业化项目
8.2.1　项目基本情况
8.2.2　项目投资价值
8.2.3　项目投资概算
8.2.4　项目效益分析
8.3　晶亦精微半导体装备项目
8.3.1　高端半导体装备研发项目
8.3.2　高端半导体装备工艺提升及产业化项目
8.3.3　高端半导体装备研发与制造中心建设项目
第九章　2023-2029年中国化学机械抛光（CMP）技术行业发展趋势及展望
9.1　CMP抛光材料行业发展趋势分析
9.1.1　行业发展前景
9.1.2　市场发展机遇
9.1.3　行业发展趋势
9.2　CMP设备行业发展趋势分析
9.2.1　行业发展前景
9.2.2　行业发展趋势
9.2.3　模块升级趋势
9.3　2023-2029年中国CMP技术行业预测分析
9.3.1　2023-2029年中国CMP技术行业影响因素分析
9.3.2　2023-2029年中国CMP设备销售规模预测
9.3.3　2023-2029年中国CMP材料市场规模预测

图表目录
 
图表1　CMP工艺原理图
 图表2　中国CMP技术行业相关支持政策
 图表3　电子化学品首批次应用示范指导目录
 图表4　2018-2022年国内生产总值及其增长速度
 图表5　2018-2022年三次产业增加值占国内生产总值比重
 图表6　2022年GDP初步核算数据
 图表7　2017-2022年GDP同比增长速度
 图表8　2017-2022年GDP环比增长速度
 图表9　2023年GDP初步核算数据
 图表10　2017-2021年全部工业增加值及其增长速度
 图表11　2021年主要工业产品产量及其增长速度
 图表12　2021-2022年规模以上工业增加值同比增长速度
 图表13　2022年规模以上工业生产主要数据
 图表14　2022-2023年规模以上工业增加值同比增长速度
 图表15　2023年规模以上工业生产主要数据
 图表16　2022年年末人口数及其构成
 图表17　2012-2022年全国60周岁及以上老年人口数量及占全国总人口比重
 图表18　2012-2022年全国65周岁及以上老年人口数量及占全国总人口比重
 图表19　2012-2021年全国65周岁及以上老年人口抚养比
 图表20　2021年居民人均可支配收入平均数与中位数
 图表21　2022年全国及分城乡居民人均可支配收入与增速
 图表22　2023年全国及分城乡居民人均可支配收入与增速
 图表23　2021年居民人均消费支出及构成
 图表24　2022年居民人均消费支出及构成
 图表25　2023年居民人均消费支出及构成
 图表26　各类平坦化技术与CMP平坦化效果
 图表27　CMP技术的优点
 图表28　当前各CMP厂商工艺水平
 图表29　2965-2023年化学机械抛光全球申请趋势
 图表30　1965-2022年各国化学机械抛光专利申请趋势
 图表31　全球CMP专利地域分布情况
 图表32　化学机械抛光创新主体专利申请量
 图表33　半导体材料主要细分产品
 图表34　三代半导体材料发展历程及主要特征
 图表35　2021-2022年全球半导体材料市场规模
 图表36　抛光材料分类状况
 图表37　CMP广泛应用于硅片、芯片制造与前端封装工艺
 图表38　随着制程向先进化发展，对表面平坦化程度的要求提升
 图表39　逻辑类制程中CMP工序道数
 图表40　NAND类存储从2D到3D，CMP道数翻倍以上增长
 图表41　CMP抛光材料产业链
 图表42　2021-2023年全球CMP材料市场规模统计
 图表43　2021年全球CMP材料市场规模及占比
 图表44　CMP发展史
 图表45　2017-2023年中国CMP抛光材料行业市场规模预测及增速